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德國Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學(xué)波導(dǎo)制作的光膠可供選擇。

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Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學(xué)品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱，從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有：Ti、半導(dǎo)體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長期與Intel實驗室合作，產(chǎn)品被廣泛收錄進美國各大學(xué)半導(dǎo)體教程，是各大研究機構(gòu)產(chǎn)品。

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SU-8 2000化學(xué)放大，i線抗蝕劑非常適合制造 permanent性器件結(jié)構(gòu)。 這些負色調(diào)，環(huán)氧基抗蝕劑表現(xiàn)出優(yōu)異的耐化學(xué)性和低的楊氏模量，使其成為制造微/納米結(jié)構(gòu)的理想選擇，如懸臂，膜和微通道。

SU-8 3000已被配制用于改進的粘合性和降低的涂層應(yīng)力。它被用于需要高結(jié)合強度和改進的微結(jié)構(gòu)制造柔性的地方。 結(jié)果，大大提高了與基板的粘合性。