美國RTP系列的快速退火爐溫度均勻度≤1%，處理的大尺寸可以達到200mm，溫度可以達到1200攝氏度，處理過程可以在真空環(huán)境或者惰性氣體的環(huán)境中執(zhí)行，做多可支持4~6路進氣，可以用到的氣體包含N2，O2，N2H2，Ar和H2。

基于PID處理控制器的Solaris GUI可以存儲程序，每套程序可以支持高達100個步驟的設(shè)定，帶USB2.0的接口。包含Solaris GUI 軟件，與微軟Windows操作系統(tǒng)兼容。通過該軟件，通過鏈接電腦可以非常方便地實現(xiàn)程序編輯以及數(shù)據(jù)記錄。

技術(shù)規(guī)格：

- 溫度：1200攝氏度；

- 升溫速率：150攝氏度/秒；

- 溫控均勻性：±2.5℃設(shè)定溫度；

- 加熱方式：紅外鹵素?zé)簦敳考暗撞繀^(qū)域加熱；

- 處理時間：0.1秒至無*；

- 燈管數(shù)量及功率：13支，

- 腔體冷卻：風(fēng)冷方式；

- 襯底冷卻：氮氣吹掃；

- 工藝氣路：MFC控制，多6路 (氮氣、氬氣、氧氣、氫氮混合氣等)；