光刻膠SU-8 2000

簡(jiǎn)要描述：SU-8 2000是一種高對(duì)比度，基于環(huán)氧的光致抗蝕劑，設(shè)計(jì)用于微加工和其他微電子應(yīng)用，需要厚，化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進(jìn)配方，多年來(lái)已被MEMS生產(chǎn)商廣泛使用。使用更快干燥，極性更大的溶劑系統(tǒng)可改善涂層質(zhì)量并提高工藝產(chǎn)量。 SU-8 2000有十二種標(biāo)準(zhǔn)粘度。通過(guò)單道涂覆工藝可以實(shí)現(xiàn)0.5至> 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。

產(chǎn)品型號(hào)：2035/2050/2075/2100
廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2025-07-01
訪(fǎng) 問(wèn) 量：3249

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產(chǎn)品分類(lèi)

光刻膠

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詳細(xì)介紹

為了獲得大的過(guò)程可靠性，在涂覆SU-8 2000抗蝕劑之前，基材應(yīng)清潔干燥。為了獲得很好的結(jié)果，應(yīng)使用食人魚(yú)濕法蝕刻（使用H2SO4和H2O2）清潔基材，然后用去離子水沖洗。

基材也可以使用反應(yīng)離子蝕刻進(jìn)行清潔

（RIE）或任何裝有氧氣的桶式灰燼。通常不需要粘合促進(jìn)劑。對(duì)于包括電鍍的應(yīng)用，建議使用MCC Primer 80/20（HMDS）對(duì)基材進(jìn)行預(yù)處理。

涂層

SU-8 2000抗蝕劑有十二種標(biāo)準(zhǔn)粘度。本加工指南文件涉及四種產(chǎn)品：SU-8 2025，SU-8 2035，SU-8 2050和SU-82075。圖1。

提供選擇合適的SU-8 2000抗蝕劑和旋轉(zhuǎn)條件以實(shí)現(xiàn)所需膜厚所需的信息。

推薦節(jié)目

1.）為基板直徑的每英寸（25毫米）分配1ml的抗蝕劑。

2.）以100 rpm /秒的加速度在500 rpm下旋轉(zhuǎn)5-10秒。

3.）以300 rpm /秒的速度在2000 rpm下旋轉(zhuǎn)30秒。

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