核心技術(shù)突破

TRANSENE酸性鍍銅液采用創(chuàng)新化學(xué)體系，具有三大技術(shù)優(yōu)勢(shì)：

1. 智能穩(wěn)定劑系統(tǒng)：

l 精確控制鍍液電阻率

l 促進(jìn)形成光亮致密鍍層

l 有效抑制枝晶生長(zhǎng)

2. 納米級(jí)晶?？刂?/span>：

l 獲得均勻分布的非柱狀晶結(jié)構(gòu)

l 晶粒尺寸控制在50-100nm范圍

l 表面粗糙度Ra<0.2μm

3. 寬工藝窗口設(shè)計(jì)：

l 溫度適應(yīng)范圍21-49℃（70-120℉）

l 電流密度窗口20-50ASF

l 兼容多種基材處理

工藝性能參數(shù)

專業(yè)應(yīng)用解決方案

本產(chǎn)品特別適用于以下應(yīng)用場(chǎng)景：
? 高密度互連（HDI）PCB制造
? 集成電路載板電鍍
? 半導(dǎo)體封裝通孔填充
? 精密連接器表面處理
? 電力電子器件散熱層

智能工藝控制系統(tǒng)

1. 精準(zhǔn)pH管理：

l 采用硫酸自動(dòng)調(diào)節(jié)系統(tǒng)

l 實(shí)時(shí)監(jiān)控pH波動(dòng)±0.1

l 確保工藝穩(wěn)定性

2. 高效過(guò)濾方案：

l 連續(xù)過(guò)濾系統(tǒng)

l 推薦過(guò)濾精度1-5μm

l 兼容多種耐酸材料

3. 攪拌技術(shù)：

l 機(jī)械式攪拌設(shè)計(jì)

l 優(yōu)化流體動(dòng)力學(xué)參數(shù)

l 確保鍍液均勻性

產(chǎn)品核心優(yōu)勢(shì)

1. 通孔電鍍專家：

l 高深鍍能力（TP值>85%）

l 覆蓋高深寬比結(jié)構(gòu)

l 解決傳統(tǒng)工藝"狗骨"效應(yīng)

2. 經(jīng)濟(jì)效益顯著：

l 沉積速率提升30%

l 銅陽(yáng)極100%利用率

l 延長(zhǎng)鍍液使用壽命

3.：

l 通過(guò)IPC-4552A認(rèn)證

l 鍍層延展性>15%

l 電阻率<1.72μΩ·cm

選擇TRANSENE酸性鍍銅解決方案，為您的電子產(chǎn)品賦予超導(dǎo)級(jí)銅鍍層保護(hù)！讓我們攜手推動(dòng)電子制造工藝邁向新高度。