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  • 2018

    3-12

    鈣鈦礦太陽能電池作為一種新型低廉光伏技術(shù)在近年來備受關(guān)注。自從2009年日本科學家Miyasaka報道鈣鈦礦太陽能電池以來,在短短的幾年內(nèi),鈣鈦礦太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率從3.8%上升到22.7%。與此同時,鈣鈦礦電池的器件穩(wěn)定性也大幅度提高。這些高速的發(fā)展背后是世界各國科學家針對鈣鈦礦電池的基礎(chǔ)科學難題的理解以及器件技術(shù)瓶頸的攻關(guān)。尤其是,在2017年,鈣鈦礦太陽能電池在規(guī)?;苽?,器件穩(wěn)定性,乃至毒性等各個方面都有著驚喜表現(xiàn)。1.新型通用鈣鈦礦器件空穴傳輸界面界面損失是鈣...

  • 2018

    2-6

    德國Diener等離子清洗機初始安裝遵循步驟德國Diener等離子清洗機初始安裝時,遵循下列步驟:準備工作:找到合適的位置放好儀器主機,打開真空泵包裝,灌裝好真空油(通過觀察窗觀察到真空油到觀察窗的三分之二的位置即可),改裝真空泵電源線(更換隨機的電源接頭)。*步連接好等離子清洗機與真空泵之間的真空管路,緊固好O型卡和鎖緊帽,做到連接處密封且不漏氣。第二步接通供電電源和真空泵電源,在此之前檢查所有按鈕必須處于復位狀態(tài),同時檢查所供電源插座的L、N、E的接線是否與機箱后的AC2...

  • 2018

    1-16

    MicroChem光刻膠滿足客戶需求反應作用MicroChem光刻膠廣泛應用于在處理多種數(shù)據(jù)存儲和無線芯片到MEMS的金屬剝離MicroChem光刻膠在超出單層防腐可以延長限制剝離處理。這包括非常高的分辨率的金屬化(<0.25µM),以及非常厚(>4µm)金屬化。這些*的材料可幾乎滿足任何客戶需要。MicroChem光刻膠材料用途:金屬電梯加工,橋制造,釋放層。曝光過程中,MicroChem光刻膠中的感光劑發(fā)生光化學反應,從而使正膠的感光區(qū)、負膠的非感...

  • 2017

    12-15

    德國Diener等離子清洗機測試表面處理結(jié)果德國Diener等離子清洗機產(chǎn)生zui主要是靠電子去撞擊中性氣體原子,使中性氣體原子解離而產(chǎn)生等離子體,但中性氣體原子核對其外圍的電子有一束縛的能量,我們稱它為束縛能,而外界的電子能量必須大于此束縛能,才會有能力解離此中性氣體原子,但是,此外界的電子往往是能量不足的,沒有解離中性氣體原子的能力,所以,我們必須用外加能量的方法給原子電子能量,使電子有利用解離此中性氣體原子。通常在用德國Diener等離子清洗機處理后,想測試表面處理結(jié)果...

  • 2017

    11-16

    MicroChem光刻膠靈敏度能量MicroChem光刻膠成分分析:通過多種大型儀器聯(lián)用獲得相關(guān)譜圖,比對譜圖數(shù)據(jù)庫分析出組分及含量;MicroChem光刻膠配方還原:通過產(chǎn)品各組分組成及其比例,分析出產(chǎn)品基礎(chǔ)配方;MicroChem光刻膠異物診斷:就產(chǎn)品中的異物,確定其主要組成成分,分析物質(zhì)產(chǎn)生途徑;MicroChem光刻膠性能改進:針對產(chǎn)品常見的問題,通過分析基礎(chǔ)配方找出相關(guān)性能差的原因并提出改進建議。據(jù)光刻膠按照如何響應紫外光的特性可以分為兩類。正膠曝光前對顯影液不可溶...

  • 2017

    10-18

    美國Uvitron紫外固化箱確保固化的優(yōu)良重復性美國Uvitron紫外固化箱設(shè)備集成可伸縮遮光型快門,允許設(shè)定曝光時間,確保固化的優(yōu)良重復性,保護用戶免受紫外輻射。系統(tǒng)定時器UV燈在定時/自動模式下,可以設(shè)置1到9999秒曝光時間,在設(shè)定時間內(nèi),快門打開。在手動模式下,顯示時間不斷增加,直到手動停止曝光為止。另有一個定時器顯示燈泡使用的時間(小時),并觸發(fā)面板的LED指示燈,提醒用戶燈泡需要更換。燈泡強度控制美國Uvitron紫外固化箱光源強度可調(diào)(50%-100%,精度1%...

  • 2017

    9-20

    MicroChem光刻膠滿足的硬性指標要求MicroChem光刻膠的主要性能劃分光刻膠的一個基本的類別是它的極性。光刻膠在曝光之后,被浸入顯影溶液中。在顯影過程中,正性光刻膠曝過光的區(qū)域溶解得要快得多。理想情況下,未曝光的區(qū)域保持不變。負性光刻膠正好相反,在顯影劑中未曝光的區(qū)域?qū)⑷芙?,而曝光的區(qū)域被保留。正性膠的分辨力往往是的,因此在IC制造中的應用更為普及,由于加工要求相對較低,光刻膠需求量大,負性膠仍有應用市場。MicroChem光刻膠必須滿足幾個硬性指標要求:高靈敏度,...

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